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EUV光刻機新光源出現(xiàn),,成本降50%,,功耗降80%

瀏覽次數(shù):18722024-06-18 17:41:26

目前全球僅有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機,而制造7nm以下芯片,,又必須使用到EUV光刻機,,所以ASML相當于卡住了全球先進晶圓廠的脖子。

于是ASML推出的1.5億歐元的標準EUV光刻機,,臺積電等廠商不得不買,,后來再推出3.5億歐元的High NA EUV光刻機,intel們繼續(xù)買,。


靠著這樣不斷升級EUV光刻機,,ASML賺的盆滿缽滿。

而為了壟斷EUV光刻機生意,,ASML將EUV光刻系統(tǒng)上的眾多供應(yīng)鏈,,捆綁在了自己戰(zhàn)車,收購的收購,,投資的投資,,反正讓其它競爭對手,沒有合作的機會,。

比如蔡司,,比如TRUMPF、比如Cymer等,,均綁上了ASML戰(zhàn)車,。


可以說,其它企業(yè),,如果想走ASML的路線來造EUV光刻機,,基本沒戲,除非換一條新道路,,才有可能性,。

而近日,這條新道路出現(xiàn)了,,EUV光刻機中,,最重要的EUV光源部分,有了新的解決方案,,且新方案,,比舊方案,成本更低,,功率更高,,技術(shù)更為先進。

舊方案中,,產(chǎn)生EUV光線,,是非常麻煩的,方案叫做”激光等離子體EUV光源(EUV-LPP)“,,是用二氧化碳激光器,,轟擊錫金屬液滴,,將這些錫珠蒸發(fā)成等離子體,放射出極紫外線(EUV)了,,再通過透鏡,,對EUV進行收集。


這個過程非常復(fù)雜,,成本也非常高,,同時功率轉(zhuǎn)化率非常低,大約只有3-5%的轉(zhuǎn)化率,。所以現(xiàn)在的EUV光刻機都是電老虎,,就是因為功率轉(zhuǎn)化率非常低,最終能夠使用的功率也低,。

而新的方案叫做自由電子激光器(FEL),,用這種方案,同樣能夠生產(chǎn)EUV光源,,讓來自電子加速器的電子束在波蕩器中發(fā)光,,然后再放大FEL光,得到EUV--FEL光源,。

與舊方案相比,,一旦成本低多了,不需要錫球,,再用二氧化碳激光器來激發(fā),同時功率轉(zhuǎn)化損失也不會非常大,。


按照說法,,如果采用EUV FEL方案來制造光刻機,EUV光刻機的制造成本降了很多,,可能只有原先的一半都不到,。

更重要的是,因為功率轉(zhuǎn)化高多了,,不像以前只有3-5%,,現(xiàn)在可以高達30%以上,后續(xù)EUV光刻機也不會成為電老虎,,耗電量大大降低,,變?yōu)樵瓉淼奈宸种唬加锌赡堋?/span>

不僅如此,,EUV-FEL還可以升級為BEUV-FEL,,產(chǎn)生更短的波長(6.6-6.7 nm),比EUV的13.5nm波長更知,,這樣分辨率更高,,能制造更先進的芯片,。

所以很多科學(xué)家表示,EUV-FEL光束明顯更適合作為EUV光刻機的光源,。

目前美國,、日本已經(jīng)有機構(gòu)在研究這種EUV-FEL技術(shù),按照說法,,雖然短時間之內(nèi),,還無法利用這個技術(shù)制造出EUV光刻機,但相信也不會太久了,,也許三年,、五年就能夠制造出來了。

不知道ASML怎么看,?一旦這種EUV光刻機面市,,那么對整個EUV光刻機生態(tài),將面臨大洗牌,,那么全球半導(dǎo)體格局都會發(fā)生巨大變化,,不知道ASML慌不慌?

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